短パルス発生技術の歴史 その4

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1 Kerr lens mode-locking, SESAM, Chirped mirror技術の発展 【はじめに】
【KLM技術とSESAM, Chirped Mirror技術】
【短パルス発生技術の発展−能動生業と受動制御、人工原子技術へ】
【Sibbettのマジックモードロック：分散補正なし】		 植田 憲一
2 【モードロック発振にはMini-shakerが必要だった】
【モードロックレーザー発振】
【希土類添加固体レーザーに応用するには】
【フーリエ限界パルスの認識変化】
【スペクトルと時間波形の関係 フーリエ変換】
【Time-bandwidth product 時間バンド幅積】		 植田 憲一
3 【Kerr-lens mode-locked Yb3+：Sc2O3セラミックレーザー】
【KLMによるビームプロファイルの変化：KLM】
【SESAMをHRミラーに交換したら】
【Yb：Lu2O3セラミック71fs, 21.3nm KLM特性】		 植田 憲一
4 【モードロック発振はCW発振の2倍の効率に】
【レーザープロファイルの改善と長期安定性】
【複数レーザー媒質ハイブリッドレーザーによる帯域拡大】
【複合利得媒質による利得帯域幅と非線形効果の制御】		 植田 憲一
5 【固体レーザーの分光的パラメータ】
【利得媒質比と反転分布量に対する利得幅変化】
【1mm 2.5 at.% Yb：Sc2O3 and 1.5 mm 1.8 at.% Yb：Y2O3 セラミックハイブリッドレーザー】
【モード同期 Yb3+：Sc2O3, Yb3+：Y2O3 複合利得セラミックレーザー】
【位相同期したレーザー光のスペクトルは蛍光幅より広い】
【希土類添加固体レーザーによる<100fs 短パルス化の意味】		 植田 憲一
6 【複数利得媒質によるハイブリッドモードロックのまとめ】
【カーレンズモードロック実験の重要な結論】
【KLMによる数サイクルパルス発生】		 植田 憲一
7 【U.KellerとSESAMモードロック】
【能動的、受動的モードロックの違い】
【SESAMモードロック】
【過飽和吸収体→A-FPSA→SESAMへの発展の歴史】
【SESAM人工的原子のエネルギー配置】
【レーザー波長対応半導体材料：GaAs,InP,GaInNAs】		 植田 憲一
8 【SESAMパラメータ：飽和、変調深さ、回復時間】
【Qスイッチ不安定性の回避条件】
【1995年：A-FPSAから単一量子井戸構造へ】
【反共振から共振型SESAMへの変化の効果】
【SESAM 開発の歴史とマイルストーン】		 植田 憲一
9 【2003年：モードロック Thin Disk Yb：YAGレーザーの中空ファイバーパルス圧縮】
【>1014W/cm2の高収束強度】
【レーザー電場によるトンネルイオン化と高次高調波発生】
【数サイクルパルスによるコヒーレント白色X線 HHG発生】		 植田 憲一
10 【KLMによる超短パルス発生の登場】
【反射深さによる広帯域分散補償ミラー：Chirped multilayer coating】
【高次分散補正】
【Chirped mirrors】		 植田 憲一
11 【問題点、dispersion oscillation】
【BASIC Double chirped mirrors】
【DCMの問題点：低反射と広帯域は両立しない】
【オクターブ超えBASIC DCM のデザイン】
【2.7fsパルスとは、どんなパルス】
【群速度、位相速度、波頭速度】
【Carrier-Envelope Offset Phaseの計測法の提案】
【最初のCEO位相制御実験】
【CEO位相の安定化結果の例】
【高強度数サイクルパルスへの道程】
【Keller Lab. Federal Technical Institute, Zurich】		 植田 憲一
12 【質疑応答】 植田 憲一